真空イオンメッキ

    これはガス沈積の範囲に属し、真空蒸発と噴射メッキを結合させたメッキ技術であります。真空条件においてガス放電によりガス又は蒸発された物質の一部分離化をさせて、ガスイオン又は蒸発された物資のイオン砲撃によって、蒸発された物質又はその反応物を製品の表面に沈積させるプロセスであります。

磁性制御噴射

    Arガス原子と電界がぶつかりを発生することを利用し、電離させた後に加速的にカソード標的面に飛んでいき、高エネルギーで標的表面に砲撃し、標的材の自身の粒子が束縛を離脱し、噴射して、標的表面によって磁場に引き入れ、磁場が帯電粒子を束縛することを利用してプラズマ体の密度を向上し、噴射率を増えます。

アークイオンメッキ

    真空孤光放電を蒸発ソースに用いる真空イオンメッキ技術であります。その孤光形式はカソード表面にアークマダラを形成し、直接にプラズマ体を生産し、基本シートに沈積します。二つ又は二つ以上のアーク蒸発ソースを採用する場合、多アークイオンメッキと称します。